2026年初,青软晶芒大学计划——三微电子全自主产权板级EDA设计工具—三微慧连EDA(SUNV-EDA)2026版正式推出。
SUNV-EDA 聚焦集成电路封装与系统集成领域,针对行业普遍存在的"设计效率低、复杂场景难、数据不互通"三大痛点,构建起覆盖多场景的全流程设计体系。
在上一版本基础上,2026版本不仅实现了多个功能突破,而且优化了多个核心功能模块,进一步提升了设计效率与应用体验。
新增功能抢先看
在项目管理器及原理图、符号、PCB、封装等所有编辑器中,新增对SUNV-EDA历史版本元器件库的导入支持。用户可直接调用历史版本的元器件数据,无需在新版本中重新创建符号或封装。
该功能可实现元器件数据的跨版本无缝复用,大幅缩短设计准备周期;有效避免因重复建库引入的人为错误,确保设计数据的一致性与可追溯性。
在PCB编辑器中集成自动布线引擎。用户设定布线规则(如网络拓扑、布线层、线宽约束等)后,软件依据连接关系自动完成PCB的走线布局。
这一新增功能显著提升PCB设计的自动化水平,尤其适用于快速原型验证及中低复杂度电路板;通过算法优化走线路径,在保证设计规则的前提下缩短设计周期,减轻用户人工布线工作量,提升布线效率。
在PCB和封装编辑器中集成整板和封装3D模型查看器,支持对PCB和封装三维模型的旋转、缩放、平移等交互式查看。
该功能可以帮助用户直观展示电路板和封装设计的物理结构,提升设计可视化程度,方便与机械设计团队沟通,减少实物试错成本。
除新增以上功能外,SUNV-EDA 2026版更是对现有多个核心功能进行细节打磨,让设计更流畅、效率更出众。
高密度PCB与先进封装设计实现突破
搭建AI自适应布线算法,实现0.1mm线宽/线距精准布线;支持MCM裸芯放置、键合丝绘制及DRC检查,同时突破3D-SiP多层堆叠设计瓶颈,可支持4层堆叠立体互联,成功解决进口工具无法覆盖的先进封装场景。
自动打地孔与DFM检查进一步降本增效
通过专属算法实现全局自动打地孔,操作时间从4小时大幅缩短至1分钟内;DFM功能可在设计阶段完成工艺检查与修正,输出Gerber即可直接生产,缩短设计周期2天以上,电路板制造成本预计可降低15%。
一站式研发平台无缝协作
SUNV-EDA 2026版搭建SUNV 365设计平台,连接设计师、制板厂商与代工厂商,支持文件管理、设计评审、制板下单等功能,与EDA工具无缝衔接,实现设计到生产周期缩短25%。
丰富CMS资源库,与PLM协同管理
CMS系统整合元器件全信息,专人维护确保数据准确,选型效率提升50%;PLM系统打通设计-工艺-生产流程,实现图纸、BOM及工序的全生命周期管理,解决多团队协作"信息孤岛"问题。
三微电子工业软件项目负责人表示:“SUNV-EDA 2026版不仅成功破解进口工具在高密度、立体封装等高端应用场景的技术限制,更以高效设计与低成本应用的双重优势打破国际巨头在板级 EDA 领域的长期垄断,为国内电子产业打造出"好用、能用、敢用"的国产设计标杆。未来三微电子还将持续深化AI技术在EDA领域的融合应用,不断完善“”工具-IP-服务”一体化产业生态,助力更多国内电子企业摆脱进口工具依赖,真正掌握电子设计的核心自主权。”
SUNV-EDA 2026版本申请试用通道:
安徽青软晶芒微电子科技有限公司为中国电科产业基础研究院三微电子科技(苏州)有限公司国产自研EDA大学计划授权合作单位。双方共同为集成电路产业的生态繁荣与技术创新贡献力量。
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